快科技 5 月 25 日消息，据国外媒体报道称，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。

俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里 - 什帕克指出，该设备可确保生产 350nm 的芯片。

在俄罗斯看来，尽管 350nm 的芯片技术相较之下显得落后，但它在汽车、能源和电信等诸多行业中仍有着应用价值。

这意味着，俄罗斯在自主发展半导体技术的道路上取得了突破，有望减少对外部技术的依赖，提升国内产业的自主性和竞争力。

之前俄罗斯已经表示，计划到 2026 年实现 65nm 的芯片节点工艺，2027 年实现 28nm 本土芯片制造，到 2030 年实现 14nm 国产芯片制造。

要知道，俄罗斯大诺夫哥罗德策略发展机构早已表示，旗下应用物理研究所将会跌破所有人眼镜，在 2028 年开发出可以生产 7 纳米芯片的光刻机，还可击败 ASML 同类产品。

 

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